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無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)

簡(jiǎn)要描述：v光源：375nm、385nm、405nm激光器v線寬：0

基礎(chǔ)信息

產(chǎn)品型號(hào)

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更新時(shí)間

2024-10-22

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詳細(xì)介紹

v 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器

v 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm

v 光刻效率：3000mm2/min@5μm

v XY行程：55~205mm

v 樣品尺寸：最小3mm*3mm   8 inch

v 應(yīng)用領(lǐng)域：生物芯片、功率芯片光刻、掩膜版制造、3D衍射光學(xué)元件、芯片封裝、光通訊芯片光刻


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